כיצד ציפוי ריסוס אולטראסוני יכול לשפר את היישום של Photoresist?

מָבוֹא

ציפוי Photoresist הוא תהליך קריטי בייצור מוליכים למחצה, מיקרואלקטרוניקה, MEMS, חיישנים ותעשיות דיוק אחרות. האיכות והאחידות של שכבת הפוטו-רזיסט משפיעים ישירות על תהליכי החשיפה, הפיתוח, התחריט והעברת הדפוסים הבאים.

ציפוי ספין מסורתי נמצא בשימוש נרחב ליישום פוטו-רזיסט, אך עשויות להיות לו מגבלות בעת עיבוד מצעים לא-מישוריים, מבנים תלת-ממדיים, פרוסות עם טופוגרפיה פני השטח, או חומרים שבהם אחידות הציפוי וניצול החומרים חשובים.

טכנולוגיית ציפוי בהתזה על קוליתמספק פתרון חלופי. על ידי שימוש ברטט קולי בתדירות גבוהה- כדי לחלק את הפוטו-רזיסט הנוזלי לטיפות עדינות ואחידות יחסית, מערכת ריסוס קולי יכולה ליצור ריסוס מבוקר לשקיעת סרט דק-.

התהליך הבסיסי הוא:

Photoresist ← Atomization Ultrasonic ← טיפות עדינות ← ריסוס מבוקר ← סרט פוטו רזיסט אחיד

שלא כמו ריסוס פנאומטי קונבנציונלי, אטומיזציה קולית אינה מסתמכת בעיקר על אוויר בלחץ גבוה- כדי לשבור את הנוזל לטיפות. רטט בתדר- גבוה במשטח הזרבובית מייצר את תהליך האטומיזציה.

ניתן לשלוט בריסוס המתקבל באמצעות פרמטרים כגון תדר קולי, קצב זרימת נוזל, מרחק הריסוס, תנועת הזרבובית ומהירות המצע.

למה להשתמש באטומיזציה אולטראסונית לפוטו-רזיסט?

1. ציפוי דק אחיד-

אטומיזציה אולטראסונית יכולה לייצר טיפות עדינות בעלות חלוקת גודל טיפה צרה יחסית.- כאשר פרמטרי הריסוס עוברים אופטימיזציה נכונה, ניתן להפקיד את הטיפות באופן שווה על פני המצע.

זה שימושי במיוחד עבור יישומים הדורשים עובי פוטו-רזיסט מבוקר ואחיד.

2. שקיעת חומר מדויקת

Photoresist יכול להיות חומר יקר, ולכן חשוב להפחית את צריכת החומרים המיותר.

ציפוי ריסוס אולטראסוני מאפשר לשלוט במדויק על קצב זרימת הנוזל. בהשוואה למערכות ריסוס קונבנציונליות המשתמשות בכמויות גדולות של אוויר דחוס, התהליך עשוי להפחית ריסוס יתר ולשפר את ניצול החומרים.

3. מתאים למשטחים מורכבים

ציפוי ספין עובד בצורה הטובה ביותר על מצעים שטוחים יחסית. ציפוי ריסוס אולטראסוני מספק גמישות רבה יותר לציפוי:

מבנים תלת מימדיים

מצעים מיקרו-מובנים

רכיבי MEMS

משטחים לא-מישוריים

ופלים מובנים

מצעים בשטח- גדול

רכיבים אלקטרוניים מיוחדים

התרסיס יכול להגיע לאזורים שעלולים להיות קשים לציפוי אחיד באמצעות ציפוי ספין קונבנציונלי.

4. ריסוס- נמוך, מבוקר

אטומיזציה קולית יכולה ליצור תרסיס רך וניתן לשליטה. זה הופך אותו למתאים ליישומים שבהם יש למזער פגיעת ריסוס מוגזמת או מערבולות.

ניתן לכוונן את מאפייני הריסוס על ידי שינוי תדר קולי, קצב הזנת נוזל, מרחק הזרבובית-ל-המצע ומהירות הסריקה.

5. בקרת עובי ציפוי גמיש

עובי הפוטו-רזיסט מושפע מפרמטרי תהליך מרובים. עם מערכת ריסוס קולי, ניתן להתאים את עובי הציפוי באמצעות גורמים כגון:

ריכוז פוטו רזיסט

קצב זרימת נוזלים

תדר אולטרסאונד

מרחק ריסוס

מהירות סריקת זרבובית

מספר מעברי ציפוי

טמפרטורת המצע

תנאי ייבוש

זה מאפשר לבצע אופטימיזציה של תהליך הציפוי עבור פורמולציות פוטו-רזיסט ודרישות מצע שונות.

ציפוי פוטו-רזיסט דורש שליטה מדויקת על עובי הסרט, אחידות, צריכת חומרים וכיסוי המצע.טכנולוגיית ציפוי בהתזה על קוליתמציע גישה גמישה להנחת פוטו-רזיסט, במיוחד כאשר עובדים עם סרטים דקים, מבנים מורכבים או מצעים שקשים לעיבוד באמצעות ציפוי ספין קונבנציונלי.